为什么化学剥离（例如，浓硫酸）对聚酰亚胺涂层更干净？
聚酰亚胺涂层浓硫酸等化学剥离方法，由于其作用机理存在根本差异，通常比机械剥离更清洁。
机械剥离依赖于物理作用力，这可能会在纤细的二氧化硅光纤表面无意中产生微观损伤、刻痕或划痕。这些缺陷可能导致光纤损耗增加、机械强度降低以及潜在的失效点，特别是在光纤承受应力或用于光纤布拉格光栅（FBG）刻写等应用时。机械方法还可能留下残留的涂层碎片或不平整的表面。
相比之下，化学剥离使用一种溶剂，该溶剂与聚酰亚胺涂层发生化学反应并将其溶解。例如，浓硫酸会水解聚酰亚胺聚合物链，有效分解它们，从而实现对涂层的清洁、均匀去除，而不会对光纤的二氧化硅表面造成物理损伤。这使得光纤表面保持完好无损，这对于维持光纤的光学和机械完整性至关重要，尤其是在高性能应用中。
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OFSCN® 聚酰亚胺光纤布拉格光栅 / 光纤布拉格光栅阵列（裸纤）
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下面是我们聚酰亚胺光纤的相关图片：
